上�？萍即髮W量子器件中心（Shanghai Tech Quantum Device Lab.，SQDL）是學校開展半導體量子微納器件工藝以及交叉學科研究的重要創(chuàng)新平臺，是一個面向全校、科研院所乃至全社會開放的校級公共科研平臺。
SQDL建設目標：適合于學科前沿和前瞻性技術發(fā)展的、開放共享的、固體功能材料微納工藝制造平臺，以期形成具備國際一流的研發(fā)技術水平，為我國芯片技術發(fā)展做出貢獻。
SQDL服務定位：聚焦在量子探測器、微電子芯片為代表的固體微納器件學科前沿和前瞻技術，與中國科學院上海分院的各研究所和上海市微納器件重要學科以及新技術骨干研究機構形成戰(zhàn)略聯(lián)盟，重點解決技術成熟度在1-3級的前瞻技術概念驗證和培育問題；設計、構造和形成以量子器件、半導體芯片和NEMS芯片為牽引的世界級水平的微納加工平臺。
SQDL發(fā)展方向：重點聚焦在量子器件、微納光電子和納機電系統(tǒng)等新一代芯片，為破解新一代芯片中卡脖子問題形成貢獻。在量子器件領域，重點圍繞超導材料和硬X射線探測器研發(fā)特殊應用領域的量子芯片；新一代微納光電子領域，重點圍繞半導體材料中的GaN基材料、Si/SiC基材料和III-V基材料研發(fā)新一代微光電子芯片；納機電系統(tǒng)重點方向是圍繞鐵電、鐵磁等功能材料的新型聲學傳感與射頻器件。
崗位名稱：EBL工藝工程師
崗位人數(shù):
1
1) 負責嫻熟操作與使用包含但不限于電子束曝光機、掃描電子顯微鏡、勻膠機、化學通風柜、甩干機等實驗設備及裝置；
2) 負責完善與電子束曝光工藝流程（曝光、勻膠、顯影、堅膜等）相關的工藝規(guī)范制訂與執(zhí)行，研究工藝參數(shù)與條件對實驗結果的影響趨勢或規(guī)律；
3) 具備對特殊圖形的電子束光刻工藝技巧，負責設計制定曝光工藝優(yōu)化方案、優(yōu)化工藝窗口、改善工藝能力；對新進工藝工程師或工藝技術員執(zhí)行培訓方案，以及后臺用戶預約的管理；
4) 負責日常電子束曝光工藝問題處理，完成分析報告并及時完成相關文件；
5) 負責電子束曝光工藝相關的必備耗材與工具清單，并實行保管和管理；
6) 負責PM電子束曝光機，建立健全設備管理制度、維護保養(yǎng)制度，做好設備技術資料的形成、積累、整理、歸檔工作；
7) 負責編制年/季/月度/周儀器設備的預檢計劃、設備大修計劃，備品備件制造和供應計劃；
8) 幫助和培訓學生以及其他科研工作人員使用曝光工藝相關的設備與儀器；
9) 輔助微納制造實驗課程的制定和開設；
10) 其他上級交待的相關工作。
1) 具有微電子，光電子，材料或者物理等領域的本科學歷及以上；
2) 具備電子束曝光機使用和維護經(jīng)歷1年以上，參與過EBL設備的采購技術談判經(jīng)歷者優(yōu)先考慮；
3) 具有豐富的器件工藝的經(jīng)歷（研究生的在校科研經(jīng)歷也適用），具備計算機輔助制圖以及制作光刻版圖形的能力；
4) 對半導體器件，光電子器件的工作原理和測試有基本的了解；
5) 具有良好的團隊合作精神，善于溝通；
6) 能夠閱讀相關專業(yè)的英語文獻及具備英文寫作能力；
7) 具有良好的協(xié)調溝通能力、管理能力和學習能力、以及團隊合作精神。
工作條件與工資待遇
按照上�？萍即髮W相關規(guī)定執(zhí)行，根據(jù)個人具體情況，提供具有競爭力的薪酬、津貼和福利。
應聘方式
請應聘者填寫完整的應聘材料，通過上�？萍即髮W人才招聘系統(tǒng)提交應聘申請，不接受現(xiàn)場應聘。
為防止簡歷投遞丟失請抄送一份至：boshijob@126.com（郵件標題格式：應聘職位名稱+姓名+學歷+專業(yè)+中國博士人才網(wǎng)）
中國-博士人才網(wǎng)發(fā)布
聲明提示：凡本網(wǎng)注明“來源：XXX”的文/圖等稿件，本網(wǎng)轉載出于傳遞更多信息及方便產(chǎn)業(yè)探討之目的，并不意味著本站贊同其觀點或證實其內(nèi)容的真實性，文章內(nèi)容僅供參考。
